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仪器设备

仪器名称:振动样品磁强计

生产厂家Quantum Design IncUSA

型       号Versalab Measurement System

仪器主要技术指标:初始的系统预冷时间:10 小时;冷却耗时(30050 K); ~90 分钟; 温度范围:50 400 K (可拓展至 1000 K);磁体:±3 Tesla; 场均匀度:0.1% over 2.4  cm; 扫场速度:0.1 300 Oe/sec;场分辨率:60 mOe;

VSM 测量参数:VSM 振荡频率:5 80 Hz 可调;VSM振幅:峰值 2 mm;数据采集和平均时间:1 sec;线圈内径:6 mm (标准),1.2 cm (大线圈选件);灵敏度:1 秒平均时间 <10-6 emu  or 0.5 %;精度:1 mm 振幅下优于 1% or 6 x 10‑6 emu

电输运测量参数:可全自动测量交直流电阻率、Hall系数、I-V曲线、微分电阻等参数;电压输出范围:± 4.5 V (一倍增益时);电流范围:10nA-100mA 持续操作;电阻测量精度:0.1%  (R < 200 kΩ) 0.2% (R > 200 kΩ);相对灵敏度:± 10 nΩ RMS (typical);电阻测量范围:四线法10-8 Ω -106Ω,二线法106Ω-5×109Ω。



仪器名称:真空非自耗电弧熔炼炉

生产厂家:中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司  

型       号DHL-400

仪器主要技术指标:系统真空度6.6x10-4Pa(冷态);最大熔炼电1200A,长期工作电流700-900A;电弧熔炼阳极有五个工位(半球窝R25),三个熔炼合金工位(带电磁搅拌),一个吸铸工位;样品熔炼质量:5070克。

用       途:熔炼金属合金材料和制备大块非晶材料。



仪器名称:超高真空多功能磁控溅射仪

生产厂家中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司,射频电源、靶和分子泵国外进口。

型       号:JGP-560B

主要技术指标极限真空2×10-6Pa;基片最高加热温度600℃;5靶位;靶基距40-80mm连续可调。

功能简介它可用于在高真空背景下,充入高纯氩气和其他工作气体,采用磁控溅射方式制备各种金属膜、介质膜、半导体膜,而且又可以较好的溅射铁磁材料,制备磁性薄膜。在镀膜工艺条件下,采用微机控制样品转盘和靶挡板,既可以制备单层膜,又可以制备各种多层膜,为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段。



仪器名称:原子力显微镜

生产厂家Bruker Nano Inc Germany

型号Innova SPM Base System

主要技术指标:分辨率,垂直0.001nm,水平0.05nm

扫描范围,垂直7.5微米,水平90微米×90微米;

基本功能:接触式形貌测量、动态敲击形貌测量、真正的非接触形貌测量、横向摩擦力测量、力-距离曲线模式、相位成像模式、具有磁力显微镜功能。

















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