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仪器名称：振动样品磁强计

生产厂家：Quantum Design Inc，‍USA

型       号：Versalab Measurement System

仪器主要技术指标：初始的系统预冷时间：～10 小时；冷却耗时(300至50 K)； ～90 分钟； 温度范围：50 至 400 K (可拓展至 1000 K)；磁体：±3 Tesla； 场均匀度：0.1% over 2.4  cm； 扫场速度：0.1 至 300 Oe/sec；场分辨率：60 mOe；

VSM 测量参数：VSM 振荡频率：5 至 80 Hz 可调；VSM振幅：峰值 2 mm；数据采集和平均时间：1 sec；线圈内径：6 mm (标准)，1.2 cm (大线圈选件)；灵敏度：1 秒平均时间 <10-6 emu  or 0.5 %；精度：1 mm 振幅下优于 1% or 6 x 10‑6 emu；

电输运测量参数：可全自动测量交直流电阻率、Hall系数、I-V曲线、微分电阻等参数；电压输出范围：± 4.5 V (一倍增益时)；电流范围：10nA-100mA 持续操作；电阻测量精度：0.1%  (R < 200 kΩ)， 0.2% (R > 200 kΩ)；相对灵敏度：± 10 nΩ RMS (typical)；电阻测量范围：四线法10-8 Ω -106Ω，二线法106Ω-5×109Ω。

仪器名称：真空非自耗电弧熔炼炉

生产厂家：中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司  

型       号：DHL-400

仪器主要技术指标：系统真空度6.6x10-4Pa(冷态)；最大熔炼电流1200A，长期工作电流700-900A；电弧熔炼阳极有五个工位（半球窝R25），三个熔炼合金工位（带电磁搅拌），一个吸铸工位；样品熔炼质量：50－70克。

用       途：熔炼金属合金材料和制备大块非晶材料。

仪器名称：超高真空多功能磁控溅射仪

生产厂家： 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司,射频电源、靶和分子泵国外进口。

型       号：JGP-560B

主要技术指标：极限真空2×10-6Pa；基片最高加热温度600℃；5靶位；靶基距40-80mm连续可调。

功能简介：它可用于在高真空背景下，充入高纯氩气和其他工作气体，采用磁控溅射方式制备各种金属膜、介质膜、半导体膜，而且又可以较好的溅射铁磁材料，制备磁性薄膜。在镀膜工艺条件下，采用微机控制样品转盘和靶挡板，既可以制备单层膜，又可以制备各种多层膜，为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段。

仪器名称：原子力显微镜

生产厂家：Bruker Nano Inc ，Germany

型号：Innova SPM Base System

主要技术指标：分辨率，垂直0.001nm，水平0.05nm；

扫描范围，垂直7.5微米，水平90微米×90微米；

基本功能：接触式形貌测量、动态敲击形貌测量、真正的非接触形貌测量、横向摩擦力测量、力-距离曲线模式、相位成像模式、具有磁力显微镜功能。